半導体
半導体産業での測定タスクは最高精度の正確性と再現性を要求します。マイクロエプシロンは機械の精確なポジショニングからウェーハの検査に至るまで、数多くのアプリケーションにとって正解と呼ぶべきソリューションを提供しています。
シリコンウェーハの高精度厚さ測定
ウェーハの厚さを精確に測定するには、静電容量変位センサが使用されます。2つの向かい合うセンサが厚さを検知するだけでなく、ゆがみや製材時の刻み目といったパラメータも割り出し、その際測定ギャップ内でのウェーハの位置に変化があっても測定精度に影響はありません。
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ソーマークの検知と測定
ソーマークの自動検知と計測には、マイクロエプシロンの共焦点クロマティックセンサが使用されています。コントローラ内の高速表面補正機能が露光サイクルを制御し、反射特性が様々に異なる表面でも最高度の信号安定性を図ります。マイクロエプシロンの共焦点センサは大きな角度で傾斜させることができ、光点も小さいため、ウェーハのソーマークやその他のぎざぎざを確実に捉えることができます。
詳細を表示するシリコンウェーハ上の隆起の検知と計測
マイクロエプシロンの共焦点クロマティック変位センサは、隆起の点検に使用されています。センサがウェーハ上に小さな集光点を生成し、その高い分解能により極小の構造も確実に捉えるので、接続箇所となる隆起部分の形状や寸法も正確に検出することができます。
詳細を表示する透明なレイヤーや接着剤ビードの測定
共焦点クロマティックセンサは片面からのレイヤーの厚さ測定に使用され、その測定原理により複数の信号ピークの評価が可能なので、透明な物質の厚さも検知することができます。confocalDT ...
詳細を表示するウェーハの厚さ測定／TTV（Total Thickness Variation）
共焦点クロマティックセンサは、ウェーハの厚さや厚さの偏差（Total Thickness Variation）を測定します。ウェーハの厚さプロファイルをもとにウェーハのたわみや歪みも検知でき、測定レートが高いので短いタクトタイムで全ウェーハの厚さ測定を行うことができます。
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リソグラフィー機械でのレンズシステムのポジショニング
非接触式インダクティブ変位センサ（渦電流）は、最大限の画像正確性を実現するためレンズ素子の位置を測定します。レンズシステムの構造に応じて変位センサが最大6段階の自由度で変位や位置を検知し、さらに ...
詳細を表示するウェーハステージのポジショニング
マイクロエプシロンの非接触式センサは、ウェーハステージの位置をモニタリングするために使用され、極めて高い加速を行うステージでもハイダイナミックな ...
詳細を表示するリソグラフィー機械におけるナノメーター精度のポジショニング
ウェーハ上でコンポーネントの1つ1つを露光するには、リソグラフィー機械がウェーハをそれぞれの位置にずらしていかなければなりません。ナノメーター精度のポジショニングを可能にするため、静電容量変位センサが変位を測定します。
詳細を表示するリソグラフィーにおけるマスクのポジショニング
リソグラフィープロセスでは、最大限の精度を発揮するために機械の動きを高い分解能で長期間に渡り安定して測定する必要があります。マイクロエプシロンによる静電容量センサの分解能は非常に高く、マスクをナノメートルまで精確にポジショニングすることができます。真空にも適した仕様のセンサやセンサケーブルは、超高真空でも使用が可能です。
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