サブナノメートル分解能の絶対距離測定のための白色光干渉計
新しい白色光干渉計 IMS5600-DSは、最高精度で距離測定を行うために使用されます。コントローラにはインテリジェントな評価による特殊調整機能が搭載されており、サブナノメートルの分解能で絶対測定を行うことができます。この干渉計は、電子機器や半導体の生産といった最高の精度要件が求められる測定タスクに使用します。
広い測定範囲と長いオフセット距離による絶対距離測定
IMS5600-DSは、高精度な変位・距離測定に使用されます。このシステムは絶対測定値を提供するため、段付きプロファイルの距離測定にも使用できます。絶対測定により、高い信号安定性で段差のスキャンを行います。そのため、可動測定対象物を測定する際にヒール、段差、くぼみの高低差を確実に検知することができます。この測定システムは、サブナノメートルの分解能で測定範囲に関して長いオフセット距離も提供します。
マルチピーク距離測定
透明な物体に対するマルチピーク距離測定では、最大14の距離値を同時に評価することができるので、例えばガラスとキャリアプレートの距離などの測定が行えます。さらにこのコントローラは、距離の値からガラスの厚さを計算することも可能です。
真空環境における高分解能の距離測定に対応した設計
IMS5600-DSシリーズの干渉計は、真空環境およびクリーンルーム内での測定タスクに使用することができます。このような環境で、この干渉計はナノメートル範囲の分解能に達します。マイクロエプシロン社は真空空間での測定タスクに適したセンサ、ケーブルおよびケーブルダクトを提供いたします。これらのセンサとケーブルは微粒子が極めて発生しにくく、UHVまでのクリーンルームで使用することができます。
様々な表面の測定
干渉測定法によって、様々な表面を測定することが可能です。そのため反射する金属、プラスチック、ガラス上で高精度な距離測定を行うことができます。
要求の厳しい測定タスクに対応する多様なモデル
モデル | 測定範囲 / 測定範囲の開始点 |
直線性 |
測定可能な層の数 |
応用分野 |
---|---|---|---|---|
IMS5600-DS19 | 2.1 mm / 約19 mm | ±10 nm | - |
産業プロセスでの高精度距離測定(例:精密製造業など) |
IMS5600-DS19/VAC |
クリーンルーム環境や真空下での精密な位置決め作業や距離測定(例:ディスプレイ製造におけるマスクの位置決めなど |
|||
IMS5600MP-DS19 | 距離測定: 2.1 mm / 約19 mm 厚さ測定: 0.01~1.3 mm (BK7、n=1.5の場合) / 約19 mm |
最初の距離±10 nm さらに距離をとるごとに±100 nm |
最大13層 |
プロセスにおける高精度な距離・厚さ測定(例:半導体製造でのウェーハ上の層厚測定やLED製造など) |
IMS5600MP-DS19/VAC | クリーンルーム環境・真空下での高精度距離・厚さ測定 (例:半導体製造でのマスクやウェーハの位置・ギャップ測定時など |
Interface and signal processing units
機械やシステムに統合するための最先端インターフェース
コントローラにはEthernet、EtherCAT、RS422といった統合インターフェースおよび追加のエンコーダ接続部、アナログ出力、同期入力、デジタルI/Oが搭載されています。マイクロエプシロンのインターフェースモジュールを使用すればPROFINETとEthernetIPも利用可能なので、この干渉計はあらゆる制御システムや生産プログラムに組み込むことができます。