ナノメートル精度での絶対距離測定のための白色光干渉計
新しい白色光干渉計 IMS5400-DSは、産業分野における距離測定に新たな展望をを切り開きました。このコントローラにはインテリジェントな評価機能が搭載されており、比較的長いオフセット距離でナノメートル精度の絶対測定を行うことができます。そのためIMS5400-DSは、他の絶対測定光学システムと比較しても、精度・測定範囲・オフセット距離という組み合わせにおいて比類のない性能を提供しています。
ナノメートル精度の分解能による絶対距離測定
IMS5400-DSは、高精度な変位・距離測定に使用されます。従来の干渉計とは異なり、IMS5400-DSは段付きプロファイルの安定した測定も可能です。絶対測定により、高い信号安定性と精度で段差のスキャンを行います。そのため、可動測定対象物を測定する際にヒール、段差、くぼみの高低差を確実に検知することができます。
マルチピーク距離測定
透明な物体に対するマルチピーク距離測定では、最大14の距離値を同時に評価することができるので、例えばガラスとキャリアプレートの距離などの測定が行えます。さらにこのコントローラは、距離の値からガラスの厚さを計算することも可能です。
極小の細部や構造を測定するための小さな光点
このセンサは、測定範囲全体に渡り小さな光点を形成することで測定を行います。光点の直径はわずか10 µmなので、半導体や小型電子機器部品の構造といった小さな細部も検知することができます。
様々な表面の測定
干渉測定法により様々な表面を測定することが可能なので、反射する金属、プラスチック、ガラス上で高精度な距離測定を行うことができます。
要求の厳しい測定タスクに対応する多様なモデル
| モデル | 測定範囲 / 測定範囲の開始点 |
直線性 |
測定可能な層の数 |
応用分野 |
|---|---|---|---|---|
| IMS5400-DS19 | 2.1 mm / 約19 mm | ±50 nm | - | 精密製造などの 産業用途向け距離測定 |
| IMS5400-DS19/VAC | クリーンルーム環境や真空下での精密な位置決め作業および距離測定（例：ディスプレイ製造におけるマスクの位置決めなど） | |||
| IMS5400MP-DS19 | 距離測定： 2.1 mm / 約19 mm 厚さ測定: 0.01～1.3 mm (BK7、n=1.5の場合) / 約19 mm |
最初の距離±50 nm さらに距離をとるごとに±150 nm |
最大13層 |
フロートガラス製造時などでの産業用途向け距離・厚さ測定 |
| IMS5400MP-DS19/VAC | クリーンルーム環境・真空下での精密距離・厚さ測定 例：ディスプレイ製造などにおける距離・ギャップ測定時 |
Interface and signal processing units
機械やシステムに統合するための最先端インターフェース
コントローラにはEthernet、EtherCAT、RS422といった統合インターフェースおよび追加のエンコーダ接続部、アナログ出力、同期入力、デジタルI/Oが搭載されています。マイクロエプシロンのインターフェースモジュールを使用すればPROFINETとEthernetIPも利用可能なので、この干渉計はあらゆる制御システムや生産プログラムに組み込むことができます。
